型 號GDA750/GDA550
產(chǎn)品時(shí)間2024-06-24
所屬分類(lèi)輝光放電光譜儀
訪(fǎng)問(wèn)量3512
輝光放電光譜儀(GDA)于1968年*出現,用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長(cháng)于表面和涂層分析。與傳統的激發(fā)技術(shù)相比,輝光放電技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。
適用于質(zhì)量控制和材料研究
在金屬分析領(lǐng)域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。
表面處理工藝過(guò)程,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過(guò)分析被處理材料的表面和近表層區域實(shí)現質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂(鍍)層厚度及化學(xué)成分。
對于傳統的分析方法不能解決的材料分析問(wèn)題,輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。
采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。
GDA750可以配備60個(gè)以上的分析通道,并且能充分地滿(mǎn)足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200um表面分析和獲得的分辨率達1個(gè)原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用;化學(xué)成分可以與其他特性,如被分析區域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測定。
通過(guò)比較涂(鍍)層工藝過(guò)程(CVD,PVD)前后的表面特性,確保生產(chǎn)工藝過(guò)程佳化和大程度地避免廢品浪費。
GDA750也可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學(xué)成分),為復雜基體材料的分析提供具有良好線(xiàn)性的工作曲線(xiàn)。
主要特點(diǎn):
1.涂(鍍)層材料和均相材料化學(xué)成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數據的定性/定量評價(jià)
3.測定被分析表面層內部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶(hù)能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶(hù)的軟件功能選項,如顯示輸出、數據傳輸和數據格式